发明名称 真空蒸镀装置、真空蒸镀方法及有机EL显示装置的制造方法
摘要 本发明提供一种在大型基板上高速地形成膜厚均匀且杂质少的薄膜并可长时间连续运转的真空蒸镀装置及成膜装置。将形成了有机EL层的基板(1)垂直地设置于蒸镀室(5)内,在基板(1)上配置用于选择地蒸镀有机EL层的纯金属掩膜(4)。成为有机EL层的材料的蒸发源(8)配置于蒸镀室外。喷嘴线状地配置的蒸发头部(3)与蒸发源(8)由柔软的配管(7)连接。通过使蒸发头部(3)在与喷嘴的配置方向垂直的方向移动,在基板(1)上蒸镀有机EL层。通过以柔软的配管(7)连接蒸发头部(3)与蒸发源(9),可只使蒸发头部(3)移动,能够使装置的结构简单化,另外,能够防止由可动机构产生的杂质引起的有机EL层的污染。
申请公布号 CN102061445B 申请公布日期 2013.09.25
申请号 CN201010539611.5 申请日期 2010.11.09
申请人 株式会社日立高新技术 发明人 三宅龙也;玉腰武司;石原慎吾;松浦宏育;峰川英明
分类号 C23C14/24(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I;H01L51/56(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I 主分类号 C23C14/24(2006.01)I
代理机构 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人 张敬强
主权项 一种真空蒸镀装置,其在内部排气而维持在真空状态的蒸镀室内,具备通过蒸镀而在以掩膜覆盖表面的被处理基板的表面形成薄膜的真空蒸镀部,具有在维持为真空的环境中将上述被处理基板在另一真空空间内交接的被处理基板交接部,其特征在于,上述真空蒸镀部具有:将通过线状配置的多个喷嘴而蒸发了的材料向上述蒸镀室内喷出的蒸发头部;设置于上述蒸镀室外且使蒸发材料气化的蒸发源;以利用上述掩膜覆盖上述被处理基板的状态而将其保持的基板保持部,上述蒸发头部与上述蒸发源以具有蒸镀室内配管与蒸镀室外配管的配管连接,上述蒸镀室内配管为柔软的配管,包围上述柔软的配管配置加热器,包围上述加热器配置水冷套管,包围上述水冷套管配置真空用蛇腹管,上述柔软的配管、上述加热器、上述水冷套管由上述真空用蛇腹管从蒸镀室内分离,上述真空用蛇腹管与上述柔软的配管、上述加热器以及上述水冷套管不相连,具有使上述蒸发头部沿与上述线状配置的多个喷嘴的排列方向垂直的方向扫掠的蒸发头部移动机构。
地址 日本东京都