发明名称 热浸镀硅法制备高硅硅钢薄带的方法及硅钢带连续制备装置
摘要 本发明公开了一种热浸镀硅法制备高硅硅钢薄带的方法,控制传输备用基础薄带并使其通过热浸镀池的热浸镀液,使备用基础薄带表面覆盖上一层热浸高硅镀层,然后通过对热浸高硅镀层的厚度和表面平整度进行修饰控制,得到高硅复合镀层钢带坯料,再进行均匀化扩散热处理,连续制备硅元素分布均匀的高硅钢薄带。本发明还公开了一种硅钢带连续制备装置,包括按照工艺先后次序设置的放卷引导装置、预热炉、镀液连续供应装置、热浸镀装置、扩散热处理装置和收卷装置。本发明利用低硅钢薄带快速通过高硅熔液热浸镀一层高硅镀层,然后经过热处理工艺来获得具有优异磁性能的高硅硅钢薄带,操作简单,具有高效、可连续制备的特点,可大幅度降低制备成本。
申请公布号 CN103320737A 申请公布日期 2013.09.25
申请号 CN201310258368.3 申请日期 2013.06.26
申请人 上海大学 发明人 钟云波;龙琼;董立城;李甫;李明杰;周俊峰;任维丽;雷作胜
分类号 C23C2/40(2006.01)I;C23C2/04(2006.01)I;C23C2/28(2006.01)I 主分类号 C23C2/40(2006.01)I
代理机构 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 代理人 何文欣
主权项 一种热浸镀硅法制备高硅硅钢薄带的方法,其特征在于:选用低硅钢薄带或纯铁薄带作为备用基础薄带,采用纯硅或者高硅浓度的硅铁合金熔体制备热浸镀液,将热浸镀液倒入热浸镀池中,控制传输备用基础薄带并使其通过热浸镀池的热浸镀液,使通过热浸镀池的备用基础薄带表面覆盖上一层热浸高硅镀层,然后通过对热浸高硅镀层的厚度和表面平整度进行修饰控制,得到含硅量符合要求的高硅复合镀层钢带坯料,再对高硅复合镀层钢带坯料进行均匀化扩散热处理,连续制备硅元素分布均匀且硅含量符合要求的高硅钢薄带。
地址 200444 上海市宝山区上大路99号