| 发明名称 | 带有蚀刻掩膜的基材及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供能够实现高精细的图案形成的带有蚀刻掩膜的基材及其制造方法。通过在基材的表面涂敷感光材料并使其曝光·显影而形成抗蚀图案，在该基材及抗蚀图案的表面形成DLC覆盖膜，将形成于该抗蚀图案上的DLC覆盖膜连同该抗蚀图案剥离，在基材的表面形成DLC图案，由此形成所述带有蚀刻掩膜的基材。 | ||
| 申请公布号 | CN103329254A | 申请公布日期 | 2013.09.25 |
| 申请号 | CN201280005495.6 | 申请日期 | 2012.02.08 |
| 申请人 | 株式会社新克 | 发明人 | 重田核;菅原申太郎;重田龙男 |
| 分类号 | H01L21/3065(2006.01)I;G03F7/26(2006.01)I;H01L21/306(2006.01)I;B41C1/00(2006.01)I;B41N1/12(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/3065(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 雒运朴 |
| 主权项 | 一种带有蚀刻掩膜的基材，其特征在于，在基材的表面涂敷感光材料并使其曝光·显影而形成抗蚀图案，在该基材及抗蚀图案的表面形成DLC覆盖膜，将形成于该抗蚀图案上的DLC覆盖膜连同该抗蚀图案剥离，在基材的表面形成DLC图案，由此形成所述带有蚀刻掩膜的基材。 | ||
| 地址 | 日本千叶县 | ||