聚矽氧涂覆组合物

摘要

本发明关于一组合物，其包括：(a)一具有至少一个如下式之重复单元之聚合物：其中R1系不可水解基团，且n为一介于1至3的整数；及(b)一交联触媒。;该组合物可用于形成供光刻工业用之低k介电常数材料及具有抗反射性质之硬罩及底层材料。