空白光罩、光罩及其制造方法

摘要

本申请案揭示了一种光罩、一种空白光罩及其制造方法，以减小导致一光罩之单一型样与致密型样之间尺寸差异之负载效应。该方法包括：在一透明基板上沈积至少允许湿蚀刻之一抗蚀刻膜或一光屏蔽膜；在该抗蚀刻膜或者该光屏蔽膜上沈积与其具有相同蚀刻特性之一硬质罩膜；在硬质罩膜上涂覆一小厚度之光阻，接着曝光并显影；以及蚀刻该硬质罩膜，以去除用作一蚀刻罩之光阻型样和硬质罩膜，用于形成至少该光屏蔽膜。