发明名称 一种薄膜制备装置
摘要 一种薄膜制备装置包括雾化装置以及薄膜沈积装置。该雾化装置用于雾化前驱体溶液。该薄膜沈积装置用于将雾化后之前驱体溶液喷至基板表面以形成薄膜。该雾化装置包括容器、振动传递膜以及振动元件。该振动传递膜将容器分隔成第一收容部及第二收容部。该第一收容部填充有振动传递液体。该第二收容部用于填充前驱体溶液。该振动元件位于第一收容部,用于产生振动,并使振动通过该振动传递液体、振动传递膜传递至前驱体溶液,从而使前驱体溶液雾化。
申请公布号 TWI409360 申请公布日期 2013.09.21
申请号 TW097134076 申请日期 2008.09.05
申请人 鸿海精密工业股份有限公司 新北市土城区自由街2号 发明人 裴绍凯
分类号 C23C18/02;C01G55/00;H01L21/31 主分类号 C23C18/02
代理机构 代理人
主权项
地址 新北市土城区自由街2号