| 摘要 |
本发明提供一种防尘薄膜组件框架及包含此一防尘薄膜组件框架的微影用防尘薄膜组件之制造方法，即使将防尘薄膜组件贴附于曝光原版，亦可将起因于防尘薄膜组件框架之变形所造成的曝光原版之变形尽量减小。;本发明之方法为包含在施加负载于设置在平坦面上之防尘薄膜组件框架的状态下进行加热处理的步骤之防尘薄膜组件框架之制造方法，可有效率地获得平坦度在15μm以下的防尘薄膜组件框架。又本发明之特征为：预先在既定温度进行加热处理，以使微影步骤时的温度变化所造成之框架变形实质上不发生。较理想的情况为：温度变化所造成之框架变形为平坦度3μm以下、该加热处理温度为140～250℃、而该框架系由杨氏系数为1～80GPa的材料所构成。 |
