发明名称 回焊Sn镀敷构件
摘要 本发明提供一种抑制晶须产生并且降低了插拔力之回焊Sn镀敷构件。该回焊Sn镀敷构件中,在由Cu或Cu基合金构成之基材表面形成有回焊Sn层,该回焊Sn层表面之(101)面之取向指数为2.0以上、5.0以下。
申请公布号 TWI409128 申请公布日期 2013.09.21
申请号 TW099136886 申请日期 2010.10.28
申请人 JX日鑛日石金属股份有限公司 日本 发明人 前田直文
分类号 B23K35/26;B32B15/01 主分类号 B23K35/26
代理机构 代理人 阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼;林景郁 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项
地址 日本