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发明名称
回焊Sn镀敷构件
摘要
本发明提供一种抑制晶须产生并且降低了插拔力之回焊Sn镀敷构件。该回焊Sn镀敷构件中,在由Cu或Cu基合金构成之基材表面形成有回焊Sn层,该回焊Sn层表面之(101)面之取向指数为2.0以上、5.0以下。
申请公布号
TWI409128
申请公布日期
2013.09.21
申请号
TW099136886
申请日期
2010.10.28
申请人
JX日鑛日石金属股份有限公司 日本
发明人
前田直文
分类号
B23K35/26;B32B15/01
主分类号
B23K35/26
代理机构
代理人
阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼;林景郁 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项
地址
日本
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