| 摘要 |
提供可降低像差来对试料照射荷电粒子光束，而且，对试料之表面导入气体时，亦可不会发生放电而照射荷电粒子光束之荷电粒子光束装置。;荷电粒子光束装置1系具备：用以释放荷电粒子光束I之荷电粒子源9；由配列于照射方向之用以实施荷电粒子光束I之补正．偏向之补正．偏向手段19、二个外侧电极16a、16b、以及夹于外侧电极16a、16b之至少一个中间电极16c所构成，具有用以集中荷电粒子光束I并照射于试料M之接物镜16之荷电粒子光束光学系11；以及接物镜控制电源36，以相对于外侧电极16a、16b产生正负任一之电位差之方式，切换电压并施加于荷电粒子光束光学系11之接物镜16之中间电极16c。 |
