| 摘要 |
<p>Prüfverfahren für eine Fluchtwegmarkierung mit einem photolumineszenten Material, die eine Einbauposition aufweist und von einer Lichtquelle in definierter Position relativ zu der Einbauposition beleuchtet wird, um die Fluchtwegmarkierung für ein Nachleuchten aufzuladen, gekennzeichnet durch folgende Verfahrensschritte:–eine Anregungskurve A(λ) für die Fluchtwegmarkierung wird abhängig von der Wellenlänge bereitgestellt,–die Bestrahlungsstärke E(λ) der Lichtquelle wird für die Einbauposition der Fluchtwegmarkierung abhängig von der Wellenlänge erfasst,–eine gewichtete Bestrahlungsstärke B(λ) wird als Produkt der Bestrahlungsstärke E(l) und der Anregungskurve A(l) abhängig von der Wellenlänge ermittelt,–eine Aufladebestrahlungsstärke (BiL) wird als der gewichteten Bestrahlungsstärke B(l) über die Wellenlänge ermittelt,–eine von der Aufladedauer t1 abhängige Kennlinie Kt1(BiL) wird bereitgestellt, und eine Nachleuchtdauer für die Fluchtwegmarkierung bei der Aufladedauer t1 für die Aufladebestrahlungsstärke (BiL) wird der Kennlinie Kt1(BiL) entnommen.</p> |
