Verfahren und System zum Reparieren defekter Photomasken

摘要

Verfahren zur Änderung der optischen Eigenschaften einer Photomaske (52), die in einem Photolithographie-Prozess verwendet wird, wobei die Photomaske (52) aus einer Substratschicht (38) und einer über der Substratschicht (38) angeordneten Chromschicht (36) besteht, umfassend: Bereitstellen einer gepulsten Laserquelle (1) zum Erzeugen eines ultra-kurzen gepulsten Laserstrahls; Bereitstellen von optischen Elementen (34) zum Scannen, Führen und Fokussieren des gepulsten Laserstrahls auf eine gewünschte Zielposition; Führen des gepulsten Laserstrahls durch das Substrat und Fokussieren des Strahls auf eine zu der Chromschicht (36) benachbarte Zielposition innerhalb des Substrats; Schreiben eines diffraktiven optischen Elements (34) an der Zielposition innerhalb des Substrats, wodurch die Streueigenschaften des Substrats an der Zielposition verändert werden.