发明名称 一种通孔结构的纯α-SiC材料的制备方法
摘要 本发明公开了一种通孔结构的纯α-SiC材料的制备方法,利用碳化硅粉与碳化硼粉混合均匀并装入石墨坩埚,放入感应烧结炉中,在坩埚顶部盖上石墨纸或石墨盖,抽真空并充入高于4×104Pa的氩气后加热至2100~2600℃,保温0.5~4h,高温下B4C掺杂的SiC粉料通过升华传送到坩埚顶部,碳化硅在坩埚顶部石墨纸下面通过VLS和螺旋位错机理进行形核长大,在石墨纸盖上得到的通孔结构的纯α相SiC多孔陶瓷材料,可广泛应用于柴油车尾气颗粒捕集器或催化剂载体、尾气处理、污水处理等环保领域。
申请公布号 CN103304251A 申请公布日期 2013.09.18
申请号 CN201310185393.3 申请日期 2013.05.17
申请人 西安交通大学 发明人 杨建锋;刘波波;史永贵;景文甲;徐照芸;王波;鲍崇高
分类号 C04B38/00(2006.01)I;C04B35/565(2006.01)I;C04B35/622(2006.01)I 主分类号 C04B38/00(2006.01)I
代理机构 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人 朱海临
主权项 一种通孔结构的纯α‑SiC材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)按碳化硅80~99.5%,B4C粉0.5~20%的质量百分比,将两组份称量,球磨混合均匀;(2)将混合粉料装入石墨坩埚内;(3)将装有粉料的石墨坩埚装入感应烧结炉的圆柱筒中,在坩埚顶部盖上石墨纸或石墨盖;(4)将感应烧结炉的圆柱筒盖严,抽真空至炉内压力小于103Pa,充入氩气至炉内压力大于4×104Pa;(5)将石墨坩埚加热至2100~2600℃,石墨纸处的温度为1900~2100℃,将炉内压力减至小于2×104Pa,保温0.5~4h,使B4C掺杂的SiC粉料在坩埚顶部石墨纸或石墨盖下面形核生长,得到纯α‑SiC颗粒材料。
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