发明名称 |
用于控制异质外延生长的III族氮化物层的应力的层结构 |
摘要 |
本发明描述了一种III-N层结构,其包含在异质基材上的III-N缓冲层、附加的III-N层、第一III-N结构和第二III-N层结构。在III-N缓冲层之上的第一III-N结构包含至少两个III-N层,每个III-N层具有铝组成,并且这两个III-N层中更接近于III-N缓冲层的III-N层具有更大的铝组成。第二III-N结构包含III-N超晶格,所述III-N超晶格包含与至少两个III-N势垒层相互交错的至少两个III-N势阱层。第一III-N结构和第二III-N结构在附加的III-N层和异质基材之间。 |
申请公布号 |
CN103314429A |
申请公布日期 |
2013.09.18 |
申请号 |
CN201180063923.6 |
申请日期 |
2011.11.18 |
申请人 |
特兰斯夫公司 |
发明人 |
斯塔西亚·凯勒;尼古拉斯·费希滕鲍姆 |
分类号 |
H01L21/20(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/20(2006.01)I |
代理机构 |
中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 |
代理人 |
张颖;谢丽娜 |
主权项 |
III‑N层结构,其包含:在异质基材上的III‑N缓冲层;附加的III‑N层;在III‑N缓冲层之上的第一III‑N结构,其包含至少两个III‑N层,每个III‑N层具有铝组成,并且这两个III‑N层中更接近于III‑N缓冲层的III‑N层具有更大的铝组成;以及第二III‑N结构,其包含III‑N超晶格,所述III‑N超晶格包含与至少两个III‑N势垒层相互交错的至少两个III‑N势阱层,每个势阱层和每个势垒层具有铝组成,其中第一III‑N结构和第二III‑N结构在附加的III‑N层和异质基材之间。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |