发明名称 用于控制异质外延生长的III族氮化物层的应力的层结构
摘要 本发明描述了一种III-N层结构,其包含在异质基材上的III-N缓冲层、附加的III-N层、第一III-N结构和第二III-N层结构。在III-N缓冲层之上的第一III-N结构包含至少两个III-N层,每个III-N层具有铝组成,并且这两个III-N层中更接近于III-N缓冲层的III-N层具有更大的铝组成。第二III-N结构包含III-N超晶格,所述III-N超晶格包含与至少两个III-N势垒层相互交错的至少两个III-N势阱层。第一III-N结构和第二III-N结构在附加的III-N层和异质基材之间。
申请公布号 CN103314429A 申请公布日期 2013.09.18
申请号 CN201180063923.6 申请日期 2011.11.18
申请人 特兰斯夫公司 发明人 斯塔西亚·凯勒;尼古拉斯·费希滕鲍姆
分类号 H01L21/20(2006.01)I 主分类号 H01L21/20(2006.01)I
代理机构 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人 张颖;谢丽娜
主权项 III‑N层结构,其包含:在异质基材上的III‑N缓冲层;附加的III‑N层;在III‑N缓冲层之上的第一III‑N结构,其包含至少两个III‑N层,每个III‑N层具有铝组成,并且这两个III‑N层中更接近于III‑N缓冲层的III‑N层具有更大的铝组成;以及第二III‑N结构,其包含III‑N超晶格,所述III‑N超晶格包含与至少两个III‑N势垒层相互交错的至少两个III‑N势阱层,每个势阱层和每个势垒层具有铝组成,其中第一III‑N结构和第二III‑N结构在附加的III‑N层和异质基材之间。
地址 美国加利福尼亚州