辅助曝光装置

摘要

本发明提供一种辅助曝光装置，在光刻法中实现显影处理后的抗蚀剂图案的膜厚或线宽的精度或面内均匀性的大幅度的提高。该辅助曝光装置（AE）（10）具有：水平搬送部（30），将基板（G）以固定的姿势在一水平方向上进行搬送；UV照射单元（32），对基板（G）上的抗蚀剂照射规定波长的紫外线（UV）；发光驱动部（34），对该UV照射单元（32）内的发光元件供给发光用的驱动电流；冷却机构（36），其将UV照射单元（32）内的发光元件冷却至设定温度；照度测定部（38），对由UV照射单元（32）进行的紫外线照射的照度进行测定；和用于控制装置内的各部的控制部（40）以及存储器（42）。

主权项

一种辅助曝光装置，其特征在于：所述辅助曝光装置在光刻法中对涂敷在被处理基板上的抗蚀剂膜不进行转印掩膜的图案的曝光处理，而是对所述基板的表面的所述抗蚀剂膜照射规定波长的紫外线，所述辅助曝光装置具有：紫外线照射单元，其在第一方向上排列配置多个照射区域而成，该照射区域设置有发出所述紫外线光的一个或多个发光元件；发光驱动部，其按照各个所述照射区域对所述发光元件供给发光用的驱动电流；扫描机构，其使所述紫外线照射单元相对所述基板在与所述第一方向交叉的第二方向上相对地移动，使得对所述基板表面的抗蚀剂膜进行曝光扫描；照度特性取得部，其对于各个所述照射区域，通过所述发光驱动部取得指令值‑照度特性，所述指令值‑照度特性表示对所述照射区域的光输出的指令值与所述基板上的对应的被照射位置的照度的关系；照度控制部，其在所述曝光扫描中，按照各个所述照射区域基于所述指令值‑照度特性控制所述发光驱动部，使得与各个所述照射区域相对的所述基板上的被照射位置的照度与目标值一致或近似；和温度管理机构，其对于各个所述照射区域，在取得所述指令值‑照度特性时和之后进行所述曝光扫描时，将各个所述照射区域的温度控制为相同或近似的温度。