| 发明名称 | 阵列基板及其制造方法、显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种阵列基板及其制造方法、显示装置，涉及显示领域，可在不降低透过率的前提下，解决液晶显示器出现偏绿(Greenish)及水平X-talk等显示不良问题，提高显示装置尤其是高分辨率产品的画面品质。本发明所述阵列基板，包括：基板，自下而上依次设置于所述基板上的半导体层、源漏电极层、栅绝缘层，还包括：设置在所述栅绝缘层上的第一栅金属层；设置在所述半导体层的下方的第二栅绝缘层；以及，设置在所述第二栅绝缘层与所述基板之间的第二栅金属层。 | ||
| 申请公布号 | CN103309108A | 申请公布日期 | 2013.09.18 |
| 申请号 | CN201310210510.7 | 申请日期 | 2013.05.30 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 崔贤植;李会;徐智强;严允晟 |
| 分类号 | G02F1/1368(2006.01)I | 主分类号 | G02F1/1368(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种阵列基板，包括：基板和自下而上依次设置于所述基板上的半导体层、源漏电极层、栅绝缘层，其特征在于，所述阵列基板还包括：设置在所述栅绝缘层上的第一栅金属层；设置在所述半导体层的下方的第二栅绝缘层；以及，设置在所述第二栅绝缘层与所述基板之间的第二栅金属层。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||