发明名称 一种采用陶瓷外壳封装的具有高隔离度的集成电路
摘要 本发明提供一种采用陶瓷外壳封装的具有高隔离度的集成电路,包括管壳和芯片,管壳由壳底、壳体和盖板构成,芯片放置在壳底上,其特征在于:壳体包括第一介质层、第一金属基层、第二介质层、第二金属基层、第三介质层和第三金属基层;所述第一介质层、第一金属基层、第二介质层、第二金属基层、第三介质层和第三金属基层从上至下按顺序叠合,芯片通过键合线与第二金属基层连接,第一金属基层和第三金属基层通过第一通孔连接。本发明能够有效地降低信号通道的耦合效应,降低本振泄露,具有高的隔离度,系统结构简单,能够减少投片次数,提高了工作效率和经济效益,具有良好的应用前景。
申请公布号 CN102496612B 申请公布日期 2013.09.18
申请号 CN201110431259.8 申请日期 2011.12.21
申请人 重庆西南集成电路设计有限责任公司;中国电子科技集团公司第二十四研究所 发明人 杨若飞;万天才;范麟;唐睿;徐骅;刘永光;李家祎;李明剑;陈昆
分类号 H01L23/552(2006.01)I;H01L23/64(2006.01)I 主分类号 H01L23/552(2006.01)I
代理机构 重庆市前沿专利事务所(普通合伙) 50211 代理人 郭云
主权项 一种采用陶瓷外壳封装的具有高隔离度的集成电路,包括管壳和芯片(7),管壳由壳底(8)、壳体(10)和盖板(1)构成,芯片(7)放置在壳底(8)上,其特征在于:壳体(10)包括第一介质层(9a)、第一金属基层(2a)、第二介质层(9b)、第二金属基层(2b)、第三介质层(9c)和第三金属基层(2c);所述第一介质层(9a)、第一金属基层(2a)、第二介质层(9b)、第二金属基层(2b)、第三介质层(9c)和第三金属基层(2c)从上至下按顺序叠合,芯片(7)通过键合线(6)与第二金属基层(2a)连接,第一金属基层(2a)和第三金属基层(2c)通过第一通孔(11)连接;所述壳体(10)还包括第四介质层(9d),第四介质层(9d)叠合在第三金属基层(2c)之下方;所述壳体(10)还包括第四金属基层(2d)、第五介质层(9e)和第五金属基层(2e),第四金属基层(2d)、第五介质层(9e)和第五金属基层(2e)从上至下按顺序叠合,并且,第四金属基层(2d)叠合在第四介质层(9d)之下方,第二金属基层(2b)与第四金属基层(2d)通过第二通孔(4)相连,第一金属基层(2a)、第三金属基层(2c)和第五金属基层(2e)通过第一通孔(11)连接。
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