| 发明名称 | 非化学计量的NiO<sub>x</sub>陶瓷靶 | ||
| 摘要 | 本发明的目的是一种阴极溅射装置的，特别地用磁场辅助的阴极溅射装置的主要由陶瓷制成的靶，所述的靶主要含有氧化镍，相对于化学计量组成，氧化镍NiOx的氧是不足的。 | ||
| 申请公布号 | CN1628185B | 申请公布日期 | 2013.09.18 |
| 申请号 | CN03803405.0 | 申请日期 | 2003.02.04 |
| 申请人 | 法国圣戈班玻璃厂 | 发明人 | X·方顿;J·-C·吉龙 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01)I;G02F1/15(2006.01)I;C04B35/00(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 刘维升;段晓玲 |
| 主权项 | 一种阴极溅射装置的，基本上由陶瓷制成的靶，所述的靶主要含有氧化镍NiOx，其中x小于1，其特征在于相对于化学计量组成，氧化镍的氧是不足的，并且陶瓷靶通过喷涂得到；其中氧化镍与少数元素合金化。 | ||
| 地址 | 法国库伯瓦 | ||