发明名称 用于极高分辨率图案形成的扫描EUV干涉成像
摘要 本发明提供一种用于将图案写入到衬底上的系统和方法。产生第一和第二极紫外(EUV)辐射束。使用曝光单元以将第一和第二EUV辐射束投影到衬底上。第一和第二辐射束相互干涉,以在衬底的曝光场处曝光第一组平行线。
申请公布号 CN101910951B 申请公布日期 2013.09.18
申请号 CN200880123284.6 申请日期 2008.12.23
申请人 ASML控股股份有限公司 发明人 亨利·塞维尔
分类号 G03F7/20(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 王波波
主权项 一种器件制造方法,包括步骤:(a)通过使用具有表面的反射型分束器将EUV辐射束分开产生第一和第二EUV辐射束;和(b)使用包括第一凸面镜、第一凹面镜以及第一平面镜的基于反射镜的第一曝光单元和包括第二凸面镜、第二凹面镜以及第二平面镜的基于反射镜的第二曝光单元以将相应的所述第一和第二EUV辐射束投影到衬底上,使得所述第一和第二EUV辐射束相互干涉,以在衬底的曝光场处曝光第一组平行线。
地址 荷兰维德霍温