一种MOCVD设备及其加热装置

摘要

本发明提供一种加热装置及使用该加热装置的MOCVD设备，加热装置包括至少两个相互间隔的加热区，用于对应加热相对设置的衬底托盘，所述至少两个加热区具有面向同一侧的加热面，相邻加热区之间具有间隙，其特征在于，加热装置还包括隔热板，隔热板对应所述间隙设置，用于阻挡加热面一侧的热辐射通过所述间隙散失。本发明还提供具有这种加热装置的MOCVD设备，以解决在气相沉积工艺过程中，对位于加热装置上的衬底托盘进行薄膜沉积时，衬底托盘局部温度过低，导致衬底托盘加热不均匀出现的膜层厚度不均匀的问题。

主权项

一种加热装置，所述加热装置包括至少两个相互间隔的加热区，用于对应加热相对设置的衬底托盘，所述加热区具有面向衬底托盘的加热面，相邻加热区之间具有间隙，其特征在于，加热装置还包括隔热板，所述隔热板对应所述间隙设置，用于阻挡加热面一侧的热辐射通过所述间隙散失。