一种上电极装置

摘要

本发明涉及一种上电极装置，应用于镀膜工艺中。该上电极装置包括分流腔和至少三个气体分流板；所述分流腔上设置有进气孔；所述至少三个气体分流板固定设置在所述分流腔的内壁上，以将通过所述进气孔导入所述分流腔的气体均匀分流后导出该分流腔。采用本发明的上电极装置能够使镀膜过程中的镀膜气体的流通更为均匀，特别是流经气体分流板的边缘区域和中心区域的气体的流通更为平均，进而改善镀膜的整个膜层厚度的均匀性。

主权项

一种上电极装置，应用于镀膜工艺中，其特征在于，包括：分流腔和至少三个气体分流板；所述分流腔上设置有进气孔；所述至少三个气体分流板固定设置在所述分流腔的内壁上，以将通过所述进气孔导入所述分流腔的气体均匀分流后导出该分流腔。