发明名称 气体放电源,特别是用于EUV辐射的气体放电源
摘要 本发明涉及一种气体放电源,其用于生成EUV辐射和/或软X辐射,该气体放电源包括至少两个电极体(110,120),其中第一电极体(110)包括可旋转安装的电极盘(100)。所述源进一步包括用于电极盘的旋转驱动器(130)、用于将目标材料的液态膜施加到电极盘(100)的径向外表面上的设备(140)以及在放电区(240)内聚焦到电极盘(100)的径向外表面以蒸发目标材料的激光器。所述源的特征在于,在所述电极体之间形成中间空间(160),该中间空间在放电区(240)外具有<5mm的减小的宽度,该宽度小于该中间空间在放电区中的宽度。所述源使得所生成的辐射以简单的方式通过更大的立体角发射,而没有被所述电极遮蔽。
申请公布号 CN101971709B 申请公布日期 2013.09.18
申请号 CN200880121203.9 申请日期 2008.12.16
申请人 皇家飞利浦电子股份有限公司 发明人 J·W·尼夫
分类号 H05G2/00(2006.01)I 主分类号 H05G2/00(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 周红力;谭祐祥
主权项 气体放电源,该气体放电源至少包括:‑两个电极体(110,120),其中第一电极体(110)包括可旋转安装的电极盘(100),‑用于电极盘(100)的旋转驱动器(130),‑用于将目标材料的液态膜应用到电极盘(100)的径向外表面上的设备(140),以及‑用于发射激光束(190)的激光器,所述激光束在放电区(240)中被聚焦到电极盘(100)的径向外表面上,以便蒸发来自液态膜的目标材料,特征在于,在电极体(110,120)之间形成中间空间(160),与中间空间在放电区(240)中的宽度相比,中间空间在放电区(240)之外的宽度减小到<5mm。
地址 荷兰艾恩德霍芬