一种荧光介孔氧化硅纳米材料及其制备方法和应用

摘要

本发明公开了一种荧光介孔氧化硅纳米材料及其制备方法和应用。所述材料的特征是在介孔氧化硅的骨架中镶嵌有硅团簇或硅量子点形成的富硅微区。所述材料的制备方法包括：将水溶性表面活性剂和水解催化剂加入水中，在4～60℃下搅拌使其完全溶解；向体系中加入缺氧型硅酸酯，继续搅拌1～48小时，离心、洗涤、干燥；在惰性气氛或真空条件下，煅烧得到的前躯体材料。因本发明制备的荧光介孔氧化硅纳米材料具有较好的分散性、较均一的纳米尺寸和可调的孔径及可调的发光性能，因此，本发明的荧光介孔氧化硅纳米材料集多孔结构和荧光性能于一体，具有药物装载与输运和同步荧光成像的双重功能，在疾病的同步诊断与治疗中将具有潜在的应用价值。

主权项

一种荧光介孔氧化硅纳米材料的制备方法，所述的荧光介孔氧化硅纳米材料是指在介孔氧化硅的骨架中镶嵌有硅团簇或硅量子点形成的富硅微区，其特征在于，所述的制备方法包括如下具体步骤： a)将水溶性表面活性剂和水解催化剂加入水中，在4～60℃下搅拌使其完全溶解，水溶性表面活性剂的浓度控制在其临界胶束浓度之上； b)向体系中加入缺氧型硅酸酯，继续搅拌1～48小时，离心、洗涤、干燥，得到一种缺氧型介孔氧化硅前驱体材料，其中：缺氧型硅酸酯与催化剂的摩尔比为1000:1～1:20，缺氧型硅酸酯的摩尔浓度为0.05～2mol/L；所述的缺氧型硅酸酯为三乙氧基硅烷或三甲氧基硅烷； c)在惰性气氛或真空条件下，煅烧步骤b)得到的缺氧型介孔氧化硅前驱体材料，煅烧温度为300～1000℃，升温速率为1～50℃/分钟，保温时间为0.5～6小时。