发明名称 带电粒子束设备和样本输送设备
摘要 本发明涉及带电粒子束设备和样本输送设备。一种带电粒子束设备包括:样本室;样本架;电子束照射系统,所述电子束照射系统用于利用电子束照射所述样本;聚焦离子束照射系统,所述聚焦离子束照射系统用于利用聚焦离子束照射所述样本;样本架驱动单元,所述样本架驱动单元的旋转轴线与所述电子束照射系统的照射轴线和所述聚焦离子束照射系统的照射轴线中的至少一者正交;以及样本输送机构,所述样本输送机构用于将所述样本输送到所述样本架。所述样本输送机构包括沿与所述样本架驱动单元的所述旋转轴线平行的方向设置在所述样本架驱动单元中的输送路径,并且构造成将所述样本通过所述输送路径输送到所述样本架。
申请公布号 CN103311081A 申请公布日期 2013.09.18
申请号 CN201310082287.2 申请日期 2013.03.15
申请人 日本株式会社日立高新技术科学 发明人 荷田昌克
分类号 H01J37/26(2006.01)I;H01J37/295(2006.01)I 主分类号 H01J37/26(2006.01)I
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人 党晓林;王小东
主权项 一种带电粒子束设备,所述带电粒子束设备包括:样本室,所述样本室能被调节以在其内部产生真空;样本架,所述样本架构造成将样本保持在所述样本室内;电子束照射系统,所述电子束照射系统构造成利用电子束照射由所述样本架保持的所述样本;聚焦离子束照射系统,所述聚焦离子束照射系统构造成利用聚焦离子束照射由所述样本架保持的所述样本;次级信号检测器,所述次级信号检测器构造成检测通过所述电子束和所述聚焦离子束中的至少一者的照射而从所述样本产生的次级信号;样本架驱动单元,所述样本架驱动单元的旋转轴线与所述电子束照射系统的照射轴线和所述聚焦离子束照射系统的照射轴线中的至少一者正交;以及样本输送机构,所述样本输送机构构造成将所述样本输送到所述样本架;其中,所述样本输送机构包括沿与所述样本架驱动单元的所述旋转轴线平行的方向设置在所述样本架驱动单元中的输送路径;并且其中,所述样本输送机构构造成将所述样本通过所述输送路径输送到所述样本架。
地址 日本东京都