发明名称 |
离子源、重粒子线照射装置及方法、离子源的驱动方法 |
摘要 |
本发明涉及能够在使用激光的离子源中始终监视真空容器内的离子中的与目标离子不同的非目标离子的离子源、重粒子线照射装置、离子源的驱动方法以及重粒子线照射方法。激光烧蚀等离子体产生装置(27)使得从真空容器(1)内的包含有元素的靶(2)产生激光烧蚀等离子体(4)。离子束引出部(18)通过将激光烧蚀等离子体(4)中包含的离子从真空容器(1)内引出来生成离子束(5)。离子检测器(9)检测真空容器(1)内的离子中的与元素被离子化后的目标离子不同的非目标离子,作为检测结果而输出检测信号(14),该检测信号(14)表示非目标离子的数量,或者表示作为非目标离子相对于目标离子的混合比的值。 |
申请公布号 |
CN103313502A |
申请公布日期 |
2013.09.18 |
申请号 |
CN201310070318.2 |
申请日期 |
2013.03.06 |
申请人 |
株式会社东芝 |
发明人 |
角谷晶子;桥本清;佐藤洁和;吉行健;来栖努 |
分类号 |
H05H1/24(2006.01)I;G21K5/00(2006.01)I |
主分类号 |
H05H1/24(2006.01)I |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 72002 |
代理人 |
戚宏梅;杨谦 |
主权项 |
一种离子源,其特征在于,具备:激光烧蚀等离子体产生装置,使得从真空容器内的靶产生激光烧蚀等离子体;离子束引出部,将所述激光烧蚀等离子体中包含的离子从所述真空容器内引出而生成离子束;以及离子检测器,检测所述真空容器内的所述离子中的、与构成所述靶的元素被离子化后的目标离子不同的非目标离子,作为检测结果输出检测信号,该检测信号表示所述非目标离子的数量,或者表示作为所述非目标离子相对于所述目标离子的混合比的值。 |
地址 |
日本东京都 |