发明名称 半导体装置的制造方法
摘要 为了提供降低起因于静电放电的特性劣化的半导体装置的简单的制造方法,在第一绝缘体和第二绝缘体之间密封具有半导体集成电路及天线的多个元件层;形成包括形成于第一绝缘体表面上的第一导电层、第一绝缘体、元件层、第二绝缘体、形成在第二绝缘体表面上的第二导电层而成的叠层结构;以及使第一绝缘体及第二绝缘体熔化,由此叠层结构被分割使得至少包括一个半导体集成电路及一个天线。
申请公布号 CN102057488B 申请公布日期 2013.09.18
申请号 CN200980120672.3 申请日期 2009.05.25
申请人 株式会社半导体能源研究所 发明人 及川欣聪;小路博信;江口晋吾
分类号 H01L29/786(2006.01)I;G06K19/07(2006.01)I;G06K19/077(2006.01)I;H01L21/822(2006.01)I;H01L25/00(2006.01)I;H01L27/04(2006.01)I 主分类号 H01L29/786(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 申发振
主权项 一种半导体装置的制造方法,包括如下步骤:将分别包括半导体集成电路及天线的多个元件层密封在第一绝缘体和第二绝缘体之间;形成包括所述第一绝缘体的与所述多个元件层相反的表面上的第一导电层、所述第一绝缘体、所述多个元件层、所述第二绝缘体、以及所述第二绝缘体的与所述多个元件层相反的表面上的第二导电层的叠层结构;以及使所述第一绝缘体及所述第二绝缘体熔化,由此所述叠层结构被分割使得至少包括一个所述半导体集成电路及一个所述天线,其中通过所述分割步骤,将所述第一导电层和所述第二导电层相互电连接。
地址 日本神奈川