发明名称 真空设备
摘要 一种真空设备,适于提供多个腔室的真空环境且包括多个抽气单元及第三管路单元。每一抽气单元连接一腔室,且包括低真空抽气装置、至少一高真空抽气装置、第一管路单元及第二管路单元。高真空抽气装置设于低真空抽气装置与对应的腔室间。第一管路单元连接高真空抽气装置与低真空抽气装置且设有至少一第一阀件。第二管路单元连接对应的腔室与第一管路单元且设有第二阀件。第二管路单元与第一管路单元的连接处位于第一阀件与低真空抽气装置间。第三管路单元连接这些第一管路单元。第三管路单元设有至少一第三阀件,位于相邻二第一管路单元间。
申请公布号 TWI408285 申请公布日期 2013.09.11
申请号 TW099124209 申请日期 2010.07.22
申请人 友达光电股份有限公司 新竹市新竹科学工业园区力行二路1号 发明人 徐弘迪;吴仲尧;陈振维;王春盛;张皓岚
分类号 F04D19/04;F04B37/14;F17D1/20 主分类号 F04D19/04
代理机构 代理人 杨代强 台北市文山区罗斯福路6段407号4楼
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行二路1号