灰阶光罩之缺陷修正方法、灰阶光罩之制法及灰阶光罩

摘要

本发明所应用之灰阶光罩系藉由将半透光膜和遮光膜形成于透明基板上，并施加既定的图案化，而具有遮光部、透光部以及将曝光光之透过量减少既定量之半透光部，并用以将膜厚阶段或连续地相异之阻剂图案形成于被转印体上。半透光部系利用半透光膜形成。在本发明之灰阶光罩的缺陷修正方法，在半透光部发生缺陷时特定该缺陷部分，再决定用以将修正膜形成于经特定之缺陷部分的成膜手段和成膜材料，而在应用经决定之成膜手段和成膜材料时，决定使曝光光之透过量成为既定范围的成膜面积，并形成经决定之成膜面积的修正膜。