发明名称 微影装置及元件制造方法
摘要 本发明系关于一种微影装置,该微影装置包含一光学圆柱,该光学圆柱能够在基板之一目标部分上产生一图案。该光学圆柱可具备:一自发射对比元件,该自发射对比元件经组态以发射一光束;及一投影系统,该投影系统经组态以将该光束投影至该目标部分上。该装置可具备一致动器,该致动器用以相对于该基板移动该光学圆柱或其一部分。提供一光学感测器元件,该光学感测器元件系相对于该等光学圆柱可移动且具有一移动范围,该移动范围使该光学感测器元件能够移动通过该等光学圆柱中之每一者之一投影区域以量测该等光学圆柱中之每一者之一光束。
申请公布号 TWI408514 申请公布日期 2013.09.11
申请号 TW100106082 申请日期 2011.02.23
申请人 ASML荷兰公司 荷兰 发明人 昂夫里 乔汉斯;德 贾格 皮耶特 威廉 荷曼;范 兹维 爱尔恩 约翰
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址 荷兰