蚀刻液

摘要

本发明系提供一种最后伴随药液的蒸发等之组成变化少、药液的交换频率少、且经时性的蚀刻率变化少而可均一地蚀刻氧化矽膜之蚀刻液。具体而言，其系关于含有氟化氢酸(a)、氟化铵(b)、及氟化氢与较氨之沸点高的硷所成之盐(c)之蚀刻液，且其中氟化铵(b)之浓度为8.2mol/kg以下，而氟化铵(b)及氟化氢与较氨之沸点高的硷所成之盐(c)之合计为9.5mol/kg以上之蚀刻液、其制造方法、以及使用该蚀刻液之蚀刻方法。