发明名称 |
与外涂光阻一起使用的涂覆组合物 |
摘要 |
本发明系有关于含矽之有机涂覆组合物,特别针对抗反射涂覆组合物,其含有重复单元,其中发色基团(如苯基)系与矽原子隔开。另一样态中,系提供调制成液态(有机溶剂)组合物之含矽下层组合物,其中有机溶剂组合物之至少一种有机溶剂包含羟基。 |
申请公布号 |
TWI408503 |
申请公布日期 |
2013.09.11 |
申请号 |
TW097143614 |
申请日期 |
2008.11.12 |
申请人 |
罗门哈斯电子材料有限公司 美国 |
发明人 |
阿玛拉 约翰P;布克里安若 尼可拉;成镇旭;嘉拉夫 麦可K;卡斯托拉诺 麦可S |
分类号 |
G03F7/11;G03F7/039;G03F7/075 |
主分类号 |
G03F7/11 |
代理机构 |
|
代理人 |
洪武雄 台北市中正区博爱路35号9楼;陈昭诚 台北市中正区博爱路35号9楼 |
主权项 |
|
地址 |
美国 |