发明名称 一种提高西瓜顶插接嫁接成活率的方法
摘要 本发明公开了一种提高西瓜顶插接嫁接成活率的方法,属于生物技术领域。本技术的创新点有:1.将接穗的创口切面切成长7-10mm的楔形,可以扩大接穗与砧木的接触面;2.嫁接操作前用卫生纸拭去叶片、叶腋、叶柄、茎秆上的水珠;3. 在嫁接前一天用清水冲洗双亲幼苗;4.嫁接苗保持温度白天22~30℃,晚上15~22℃;5.嫁接前喷施适当浓度的阿维菌素与恶霉灵混合液,防治病虫害。在西瓜顶插嫁接技术中加入上述操作步骤,可有效地提高西瓜顶插接嫁接成活率。本发明具有操作简单,植株成活率高,幼苗生长快速健壮等优点,可以应用于西瓜嫁接苗的生产等领域。
申请公布号 CN103283501A 申请公布日期 2013.09.11
申请号 CN201310239049.8 申请日期 2013.06.17
申请人 安徽科技学院 发明人 陆晓民;刘孝科;李慧敏;高青海;杨维来;贾洪艳
分类号 A01G1/06(2006.01)I 主分类号 A01G1/06(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种提高西瓜顶插接嫁接成活率的方法,包括如下技术环节:(1)选择接穗与砧木的亲和力高的组合;(2)苗龄、大小相配,接穗插接的砧木稍大而接穗偏小,砧木先于西瓜提前播种3‑5天,且西瓜接穗在子叶展平时进行;(3)采用斜插孔方式,深度7‑10 mm、刺破下胚轴茎内肉至外表皮;(4)将接穗的创口切面切成长7‑10 mm的楔形,接后接穗与砧木的子叶呈十字形;(5)嫁接操作前用卫生纸拭去叶片、叶腋、叶柄、茎秆上的水珠;(6)在嫁接前一天用清水冲洗双亲,洗去植株茎节、叶片上的灰尘、泥污、碎屑等异物;(7)嫁接苗要求温度白天22~30℃,晚上15~22℃,15℃以下不可嫁接;(8)嫁接后先保持高湿90%以上的空气相对湿度,后逐渐降低湿度,嫁接5天左右成活后可进行正常湿度管理;(9)嫁接后先遮光,后逐渐多见光,以保证苗不萎蔫为原则,嫁接5天左右成活后可进行正常光照管理;(10)加强病虫防治,嫁接前喷施适当浓度的阿维菌素与恶霉灵混合液,嫁接后再依据生长情况及时防治;(11)及早除去砧木萌芽,严防养分竞争,嫁接后及时观察,发现砧木萌芽就去除;(12)接口愈合后,空气相对湿度保持在65%左右,自然光照,白天25~30℃,夜间15℃左右。
地址 233100 安徽省蚌埠市东郊安徽科技学院西区躬行楼园艺实验室