| 发明名称 | 真空处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种可以可靠地防止水分混入真空处理室中的真空处理装置。具有阀体(31a、31b)的闸阀(30a、30b)分别以双层配置在真空处理室(10)和负载锁定室(20)之间。此外，流导不同的三根排气管(21、22、23)与负载锁定室(20)连接，通过开闭阀(62、63、64)，分别与真空泵(60)连接。此外，导入N2气体的N2气体供给源(26)与负载锁定室(20)的内部连接。 | ||
| 申请公布号 | CN101441995B | 申请公布日期 | 2013.09.11 |
| 申请号 | CN200810185777.4 | 申请日期 | 2006.09.01 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 志村昭彦;近藤裕志;锅山裕树 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01)I;H01L21/677(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人 | 龙淳 |
| 主权项 | 一种真空处理装置，其特征在于，具备：在真空中对基板进行规定的处理的真空处理室；在将所述基板搬入搬出所述真空处理室的过程中，暂时收纳所述基板，其内部交替保持大气开放状态和真空状态的真空预备室；与所述真空预备室连接的流路流导不同的多根排气管；和与所述排气管连接，对所述真空预备室内进行真空排气的排气单元，其中，所述多根排气管具备：第一排气管；流路流导比所述第一排气管大的第二排气管；和流路流导比所述第二排气管大的第三排气管，且所述真空预备室经由一根N2气体供给管路与清洗气体供给源连接，并且经由流导大的第一压力调整用管路和流导小的第二压力调整用管路与清洗气体供给源连接。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||