| 发明名称 | 防反射膜、防反射膜的制造方法、偏振片和图像显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种防反射膜，其为在透光性基材之上具有硬涂层与低折射率层的防反射膜，该防反射膜的特征在于：上述低折射率层含有(甲基)丙烯酸类树脂、中空二氧化硅微粒、反应性二氧化硅微粒和两种防污剂；上述中空二氧化硅微粒的平均粒径为40nm～80nm，相对于上述(甲基)丙烯酸类树脂的配比(中空二氧化硅微粒的含量/(甲基)丙烯酸类树脂的含量)为0.9～1.4；相对于上述(甲基)丙烯酸类树脂100质量份，上述反应性二氧化硅的含量为5质量份～60质量份；上述防污剂含有由氟系化合物形成的防污剂与由氟-硅酮系化合物形成的防污剂。 | ||
| 申请公布号 | CN103299217A | 申请公布日期 | 2013.09.11 |
| 申请号 | CN201280004568.X | 申请日期 | 2012.01.16 |
| 申请人 | 大日本印刷株式会社 | 发明人 | 林真理子;堀尾智之;西村佳泰;猪俣裕哉;中村启志;用木麻友 |
| 分类号 | G02B1/11(2006.01)I;B32B7/02(2006.01)I;B32B27/18(2006.01)I;B32B27/20(2006.01)I;B32B27/30(2006.01)I;G02B1/10(2006.01)I;G02B5/30(2006.01)I;G02F1/1335(2006.01)I | 主分类号 | G02B1/11(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人 | 庞东成;张志楠 |
| 主权项 | 一种防反射膜，其为在透光性基材之上具有硬涂层和低折射率层的防反射膜，该防反射膜的特征在于，上述低折射率层含有(甲基)丙烯酸类树脂、中空二氧化硅微粒、反应性二氧化硅微粒和两种防污剂；上述中空二氧化硅微粒的平均粒径为40nm～80nm，相对于上述(甲基)丙烯酸类树脂的配比、即中空二氧化硅微粒的含量/(甲基)丙烯酸类树脂的含量为0.9～1.4；相对于上述(甲基)丙烯酸类树脂100质量份，上述反应性二氧化硅的含量为5质量份～60质量份；上述防污剂含有由氟系化合物形成的防污剂与由氟‑硅酮系化合物形成的防污剂。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||