| 发明名称 | 陶瓷生片用抗静电剂组合物 | ||
| 摘要 | 本发明提供能够抑制静电发生的陶瓷生片用抗静电剂组合物、陶瓷浆料组合物、陶瓷生片以及陶瓷生片用抗静电剂组合物的制造方法。本发明的陶瓷生片用抗静电剂组合物含有下述通式(I)所示的化合物和有机溶剂，相对于所述通式(I)所示的化合物100重量份，铁离子的含量为0.010重量份以下。通式(I)中，R表示碳数为8～22的烷基；A表示碳数为2～4的亚烷基；n表示氧化烯基的平均加成摩尔数，其为1～30的数；R<sup>1</sup>、R<sup>2</sup>和R<sup>3</sup>分别独立地表示氢原子、碳数为1～18的烷基或碳数为1～3的羟基烷基，并且R<sup>1</sup>、R<sup>2</sup>和R<sup>3</sup>中的至少一个是碳数为1～3的羟基烷基。<img file="DDA0000076098350000011.GIF" wi="1285" he="285" /> | ||
| 申请公布号 | CN102372485B | 申请公布日期 | 2013.09.11 |
| 申请号 | CN201110198535.0 | 申请日期 | 2011.07.15 |
| 申请人 | 花王株式会社 | 发明人 | 石桥洋一;后藤伸也 |
| 分类号 | C08G65/34(2006.01)I;C04B35/632(2006.01)I | 主分类号 | C08G65/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 白丽;陈建全 |
| 主权项 | 1.一种抗静电剂组合物在陶瓷生片中的用途，所述抗静电剂组合物含有下述通式（I）所示的化合物和有机溶剂，在该组合物中，相对于所述通式（I）所示的化合物100重量份，铁离子的含量为0.010重量份以下，<img file="FDA00002895452600011.GIF" wi="1292" he="292" />式中，R表示碳数为8～22的烷基；A表示碳数为2～4的亚烷基；n表示氧化烯基的平均加成摩尔数，其为1～30的数；R<sup>1</sup>、R<sup>2</sup>和R<sup>3</sup>分别独立地表示氢原子、碳数为1～18的烷基或碳数为1～3的羟基烷基，并且R<sup>1</sup>、R<sup>2</sup>和R<sup>3</sup>中的至少一个是碳数为1～3的羟基烷基。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||