发明名称 |
一种针对失调消除电路的集成电路布局方法 |
摘要 |
本发明涉及一种针对失调消除电路的集成电路布局方法。本发明首先在电容下方放置金属,并对该电容做后仿真实验,以获得该电容的单位面积电容值;以及将电阻设计成宽度为光刻机可实现电阻的最小宽度,并对该电阻做后仿真实验,以获得该电阻的方块电阻值。然后根据用户所需截止频率,以及根据该单位面积电容值、方块电阻值,计算得到电容的最小占用面积、电阻的最小占用面积。最后根据该电容最小占用面积来布置电容,并在该电容下方放置若干层金属,并且在最底层金属的正下方布置电阻,且该电阻宽度为光刻机可实现电阻的最小宽度。本发明大大减小了集成电路占用面积,降低了成本,能够广泛应用于失调消除电路等需要大电容值、大电阻值的电路中。 |
申请公布号 |
CN102064795B |
申请公布日期 |
2013.09.11 |
申请号 |
CN201010602605.X |
申请日期 |
2010.12.23 |
申请人 |
北京海尔集成电路设计有限公司 |
发明人 |
吕达文 |
分类号 |
H03H11/12(2006.01)I;H03F3/45(2006.01)I |
主分类号 |
H03H11/12(2006.01)I |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
一种集成电路布局方法,其特征在于,包括:步骤a,在电容下方放置金属,并对该电容做后仿真实验,以获得该电容的单位面积电容值;以及将电阻设计成宽度为光刻机可实现电阻的最小宽度,并对该电阻做后仿真实验,以获得该电阻的方块电阻值;步骤b,根据用户所需截止频率,以及根据步骤a所获得的单位面积电容值、方块电阻值,计算得到电容的最小占用面积、电阻的最小占用面积;其特征在于,所述电容最小占用面积与该电阻最小占用面积之和为, <mrow> <mi>Sc</mi> <mo>+</mo> <mi>Sr</mi> <mo>=</mo> <mn>2</mn> <msqrt> <mfrac> <mrow> <mi>L</mi> <mi>min</mi> <mo>·</mo> <mrow> <mo>(</mo> <mi>L</mi> <mi>min</mi> <mo>+</mo> <mi>d</mi> <mi>min</mi> <mo>)</mo> </mrow> </mrow> <mrow> <mn>2</mn> <mi>πfx</mi> <mo>·</mo> <mi>Kc</mi> <mo>·</mo> <mi>Kr</mi> </mrow> </mfrac> </msqrt> </mrow>其中,Sc+Sr是电容最小占用面积与该电阻最小占用面积之和,Lmin是电阻最小间距,dmin是电阻最小宽度,fx是用户所需截止频率,Kc为后仿真实验所获得的单位面积电容,Kr是后仿真实验所获得的方块电阻值。步骤c,根据该电容最小占用面积来布置电容,并在该电容下方放置若干层金属,并且在最底层金属的正下方布置电阻,且该电阻宽度为光刻机可实现电阻的最小宽度;其中,该电容占用面积与该电阻占用面积相等。 |
地址 |
100088 北京市海淀区花园路4号通恒大厦205室 |