一种磁控溅射靶罩

摘要

本实用新型涉及一种磁控溅射靶罩，属于高真空磁控溅射镀膜领域。在磁控溅射靶上安装有可调节高度的磁控溅射靶罩，磁控溅射靶罩的上端开口，开口端对准沉积基片。磁控溅射靶和沉积基片放置在溅射室内，溅射室上有可以观察溅射情况的观察窗。磁控溅射靶罩通过螺纹与磁控溅射靶连接，磁控溅射靶罩的上端与沉积基片始终保持1～2mm的距离，以便观察溅射时能否起辉。该靶材罩能够将靶材和基片之间的空间区域封闭起来，并有效阻断沉积粒子向溅射室内壁和观察窗的沉积，降低溅射室和观察窗的污染。

主权项

一种磁控溅射靶罩，其特征在于：在磁控溅射靶（4）上安装有可调节高度的磁控溅射靶罩（2），磁控溅射靶罩（2）的上端开口，开口端对准沉积基片（1）。