发明名称 一种在线反馈ITO薄膜特性装置
摘要 本发明属于ITO镀膜技术领域,尤其涉及一种在线反馈ITO薄膜特性装置。它包括ITO靶材、铜背板、冷却装置、工艺气体进气口Ⅰ、工艺气体进气口Ⅱ、反应气体进气口Ⅰ、反应气体进气口Ⅱ、监测光纤探头、基材、镀膜腔室、阴极护罩;ITO靶材绑定于铜背板表面,铜背板的另一面固定有冷却装置;工艺气体进气口Ⅰ、工艺气体进气口Ⅱ置于阴极靶下方,分为左右两路;反应气体进气口Ⅰ、反应气体进气口Ⅱ置于阴极靶上方,分为左右两路;本发明的在线实时监测ITO膜层特性,及时调整由于反应气体分布不均导致膜层异常,有效地提高生产效率与产能,减少了不良率。
申请公布号 CN103290380A 申请公布日期 2013.09.11
申请号 CN201310256876.8 申请日期 2013.06.26
申请人 南昌欧菲光科技有限公司 发明人 李晨光
分类号 C23C14/35(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I 主分类号 C23C14/35(2006.01)I
代理机构 南昌新天下专利商标代理有限公司 36115 代理人 施秀瑾
主权项 一种在线反馈ITO薄膜特性装置,它包括ITO靶材(1)、铜背板(2)、冷却装置(3)、 工艺气体进气口Ⅰ(4)、工艺气体进气口Ⅱ(5)、反应气体进气口Ⅰ(6)、反应气体进气口Ⅱ(7)、监测光纤探头(8)、基材(9)、镀膜腔室(10)、阴极护罩(11);其特征在于:ITO靶材(1)绑定于铜背板(2)表面,铜背板(2)的另一面固定有冷却装置(3);工艺气体进气口Ⅰ(4)、工艺气体进气口Ⅱ(5)置于阴极靶下方,分为左右两路;反应气体进气口Ⅰ(6)、反应气体进气口Ⅱ(7)置于阴极靶上方,分为左右两路;阴极靶正上方为基材(9);监测光纤探头(8)放置于反应溅射腔室侧壁反应气体进气口Ⅱ(7)下方。
地址 330000 江西省南昌市经济技术开发区黄家湖路