发明名称 |
模内射出结构 |
摘要 |
一种模内射出结构用于在电子产品的壳体表面形成所需的电路布局,该模内射出结构包含第一基材、布局层、导电层与第二基材。其中,第一基材具有作用区与本体,作用区是本体的至少一部份;布局层基于电路布局通过激光雕刻直接在作用区形成该布局层;导电层形成于布局层,导电层使布局层具有导电性;另外,第二基材射出在第一基材的作用区,第二基材覆盖导电层与布局层,用于供第二基材包覆作用区。因此,本实用新型提供了比传统激光直接成型更有效率的加工结构。 |
申请公布号 |
CN203185572U |
申请公布日期 |
2013.09.11 |
申请号 |
CN201320068422.3 |
申请日期 |
2013.02.05 |
申请人 |
台湾立体电路股份有限公司 |
发明人 |
陈辉雄 |
分类号 |
B29C45/14(2006.01)I;B29C70/88(2006.01)I |
主分类号 |
B29C45/14(2006.01)I |
代理机构 |
北京市浩天知识产权代理事务所 11276 |
代理人 |
刘云贵 |
主权项 |
一种模内射出结构,其特征在于,用于在电子产品的壳体形成所需的电路布局,包含: 第一基材,具有作用区与本体,所述作用区是所述本体的至少一部份; 布局层,基于所述电路布局通过激光雕刻直接在所述作用区形成所述布局层; 导电层,形成于所述布局层,所述导电层是以使所述布局层具有导电性;以及 第二基材,射出在所述第一基材的作用区,所述第二基材覆盖所述导电层与所述布局层,用于使所述第二基材包覆所述作用区。 |
地址 |
中国台湾新竹县 |