| 发明名称 | 处理目标空间的方法，以及液体粒子 | ||
| 摘要 | 根据本发明，稳定地喷雾任意活性成分，以处理目标空间。本发明的用于处理目标空间的方法包括在目标空间中喷雾有效量的组合物的步骤，所述组合物含有(i)溶剂和(ii)具有不小于-10但不大于7的pK的电解质，该pK是相对于水的解离常数，该组合物作为处于薄雾形式的液体粒子被喷雾，该液体粒子具有(I)不小于100nm但不大于10μm的平均粒子直径和(II)不小于+40但不大于+40000的平均电荷数。 | ||
| 申请公布号 | CN103298493A | 申请公布日期 | 2013.09.11 |
| 申请号 | CN201180062669.8 | 申请日期 | 2011.12.05 |
| 申请人 | 住友化学株式会社 | 发明人 | 叶利阿那·尼阿塔维加雅;蒂莫西·C·哈丁哈姆 |
| 分类号 | A61L9/14(2006.01)I | 主分类号 | A61L9/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 李新红 |
| 主权项 | 一种处理目标空间的方法，所述方法包括以下步骤：在目标空间中，喷雾有效量的组合物，所述组合物含有(i)溶剂和(ii)具有不小于‑10但不大于7的pK的电解质，所述pK是相对于水的解离常数，所述组合物作为处于薄雾形式的液体粒子被喷雾，所述液体粒子具有(I)不小于100nm但不大于10μm的平均直径和(II)不小于+40但不大于+40000的平均电荷数。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||