用于平面基板的单面电解处理的设备

摘要

本发明提供一种用于平面基板的单面电解处理的设备。设备包括：电解液的槽；以及输送装置，其用于在槽中的电解液的自由液面上沿着输送方向输送平面基板，其中该平面基板水平定向，使得平面基板的底面与槽中的电解液的自由液面相接触。输送装置包括彼此相对设置的、沿两个相应-的输送路径延伸的两个输送元件，该两个输送路径各自都包括电解部件，该电解部件在槽的两个相对纵向侧上延伸。

主权项

一种用于平面基板的单面电解处理的设备，包括：电解液的槽；输送装置，其用于在所述槽中的所述电解液的自由液面上沿着输送方向输送平面基板，其中所述平面基板水平定向，使得所述平面基板的底面与所述槽中的所述电解液的自由液面相接触，所述输送装置包括彼此相对设置的、沿两个相应的输送路径延伸的两个输送元件，所述两个输送路径各自都包括电解部件，所述电解部件在所述槽的两个相对纵向侧上延伸，其中所述两个输送元件中的每个都包括至少一个介电材料的承载体，所述承载体至少在关联的电解部件的位置处具有指向槽的支撑边缘，所述支撑边缘利用其上侧来将平面基板支撑在其一侧上，该支撑边缘形成所述槽的纵向壁的可动部件以及导电材料的至少一个引导构件，所述引导构件连接到所述至少一个承载体，以用于将基板的底面阴极地连接到支撑边缘的远离所述槽的一侧上，所述引导构件包括至少一个弹簧装置，所述弹簧装置具有在空载条件下至少在所述槽的位置处位于支撑边缘的上侧水平面上方的上侧，在由基板施加于弹簧装置上的向下力的影响下，将所述弹簧装置的上侧在向下方向上弹性压缩到所述弹簧装置的上侧所位于的与所述支撑边缘的上侧处于相同水平面的水平面上。