衬底操纵装置、光刻系统和器件制造方法

摘要

本发明涉及一种衬底操纵装置、光刻系统和器件制造方法，尤其涉及一种用于将待曝光的衬底从轨道转移至光刻设备的衬底操纵装置。所述衬底操纵装置布置成确定开始衬底的转移过程的状况或时刻，所述状况或时刻基于光刻设备的预定的处理特性，用于保持衬底在衬底操纵装置中的转移时间段是基本上恒定的。

主权项

一种用于将待曝光的衬底转移至光刻设备的衬底操纵装置，其中所述衬底操纵装置布置成确定衬底的转移过程开始的状况，其中，所述状况基于光刻设备的预定的处理特性。