发明名称 连续铸造设备
摘要 一种连续铸造设备,包括:模具(1);电磁设备(2),布置在模具(1)之外并且布置成用于提供施加于模具(1)中的熔化物(5)的电磁场,为该电磁设备(2)提供包括基频和谐波的电流,并且由此提供基于基频的第一电磁场和基于所述谐波的第二电磁场;以及电感传感器(3),为了感测所述熔化物(5)的弯月面的位置的目的而布置在模具(1)处,并且在与所述谐波对应的频率下操作。该连续铸造设备包括设置在电磁设备(2)与传感器(3)之间的至少一个屏蔽(8),并且所述屏蔽(8)被布置用于阻止第二电磁场干扰传感器(3)的操作,但是允许将第一电磁场施加于弯月面区域中的熔化物(5)上。
申请公布号 CN102256725B 申请公布日期 2013.09.11
申请号 CN200880132429.9 申请日期 2008.12.17
申请人 ABB公司 发明人 B·埃里克森;J-E·埃里克森;C·卡兰
分类号 B22D11/115(2006.01)I;B22D11/18(2006.01)I;B22D11/20(2006.01)I 主分类号 B22D11/115(2006.01)I
代理机构 北京市金杜律师事务所 11256 代理人 王茂华
主权项 一种连续铸造设备,包括:‑模具(1,16),‑电磁设备(2,14,15),布置在模具(1,16)之外并且布置成用于提供施加于模具(1,16)中的熔化物(5)上的电磁场,为所述电磁设备(2,14,15)提供包括基频和谐波的电流,并且由此生成基于所述基频的第一电磁场和基于所述谐波的第二电磁场,以及‑电感传感器(3),为了感测所述熔化物(5)的弯月面的位置的目的而布置在模具(1,16)处,并且在与所述谐波对应的频率下操作,其特征在于,‑所述连续铸造设备包括设置在所述电磁设备(2,14,15)与所述传感器(3)之间的至少一个屏蔽(8,10,11,19a,19b),并且所述屏蔽(8,10,11,19a,19b)被布置成包括在所述电磁设备(2,14,15)和所述模具(1,16)之间延伸的薄板,以用于阻止所述第二电磁场干扰所述传感器(3)的操作,但是允许将第一电磁场施加于弯月面区域中的所述熔化物(5)上。
地址 瑞典韦斯特罗斯