| 摘要 |
1. Способ чистовой обработки оптического элемента, причем способ содержит этапы, на которых:закрепляют оптический элемент в оптическом держателе, имеющем множество проверочных точек, накладывающихся на оптический элемент;получают первую метрологическую карту для оптического элемента и множества проверочных точек;получают вторую метрологическую карту для оптического элемента без множества проверочных точек;формируют карту разности между первой метрологической картой и второй метрологической картой;выравнивают первую метрологическую карту и вторую метрологическую карту;помещают математические проверочные точки на вторую метрологическую карту с использованием карты разности для формирования третьей метрологической карты;осуществляют привязку третьей метрологической карты оптическому элементу;закрепляют оптический элемент в зажиме в инструменте MRF;устанавливают оптический элемент в зажиме;удаляют множество проверочных точек иосуществляют чистовую обработку оптического элемента.2. Способ по п.1, в котором множество проверочных точек содержит проволочную сетку, ориентированную, по существу, параллельно к поверхности оптического элемента.3. Способ по п.1, в котором первая метрологическая карта включает в себя артефакты, связанные с проверочными точками.4. Способ по п.1, в котором оптический элемент содержит, по меньшей мере, либо сапфировый кристалл, либо легированный титаном сапфировый кристалл.5. Способ по п.1, в котором инструмент MRF содержит:полировальный круг, выполненный с возможностью обеспечения функции удаления менее 200 мкм в пространственной протяженности; исистему камеры с пространствен |
