发明名称 Verfahren zur Herstellung optimierter Solarzellen
摘要 <p>Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines Solarzellenwafers mit einem p-n-Übergang und einer Emitterschicht, vorgestellt, bei dem die Emitterschicht nach dem abschließenden Ätz- und Reinigungsschritt und vor dem Aufbringen weiterer Schichten in sauerstoffhaltiger Atmosphäre mit einer monochromen UV-Strahlung von 172 nm (+–14 nm) bestrahlt wird. Es wird eine geeignete Lichtquelle zur Erzeugung der monochromatischen UV-Strahlung genannt. Die erfindungsgemäße Behandlung des Substrats bewirkt ein verbessertes Aufwachsen von Folgeschichten auf der bestrahlten Fläche der Solarzelle.</p>
申请公布号 DE102012216416(A1) 申请公布日期 2013.09.05
申请号 DE201210216416 申请日期 2012.09.14
申请人 ROTH & RAU AG 发明人 SCHEIT, UWE;JUN, ZHAO;MEHLICH, HEIKO
分类号 H01L31/18;H01L21/268;H01L21/306;H01L31/0216 主分类号 H01L31/18
代理机构 代理人
主权项
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