发明名称 |
Verfahren zur Herstellung optimierter Solarzellen |
摘要 |
<p>Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines Solarzellenwafers mit einem p-n-Übergang und einer Emitterschicht, vorgestellt, bei dem die Emitterschicht nach dem abschließenden Ätz- und Reinigungsschritt und vor dem Aufbringen weiterer Schichten in sauerstoffhaltiger Atmosphäre mit einer monochromen UV-Strahlung von 172 nm (+–14 nm) bestrahlt wird. Es wird eine geeignete Lichtquelle zur Erzeugung der monochromatischen UV-Strahlung genannt. Die erfindungsgemäße Behandlung des Substrats bewirkt ein verbessertes Aufwachsen von Folgeschichten auf der bestrahlten Fläche der Solarzelle.</p> |
申请公布号 |
DE102012216416(A1) |
申请公布日期 |
2013.09.05 |
申请号 |
DE201210216416 |
申请日期 |
2012.09.14 |
申请人 |
ROTH & RAU AG |
发明人 |
SCHEIT, UWE;JUN, ZHAO;MEHLICH, HEIKO |
分类号 |
H01L31/18;H01L21/268;H01L21/306;H01L31/0216 |
主分类号 |
H01L31/18 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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