| 发明名称 | 薄膜蒸镀装置以及包含此的基板处理系统 | ||
| 摘要 | 薄膜蒸镀装置包括：蒸镀腔室、基座、旋转机构、升降构件以及升降驱动单元。蒸镀腔室，具有执行蒸镀工序的内部空间；基座，设置在蒸镀腔室内，在上面安装多个基板；旋转机构，使基座进行旋转动作；升降构件，具备在基座上部，支持安装在基座上的基板的各边部的一部分，升降驱动时从基座分离基板或向基座安装基板；升降驱动单元，使升降构件升降。 | ||
| 申请公布号 | CN103283014A | 申请公布日期 | 2013.09.04 |
| 申请号 | CN201280004521.3 | 申请日期 | 2012.01.03 |
| 申请人 | 圆益IPS股份有限公司 | 发明人 | 李昊荣;朴相俊;许真弼;孙炳国;张旭相;李京哲 |
| 分类号 | H01L21/683(2006.01)I;H01L21/687(2006.01)I;H01L21/205(2006.01)I;C23C16/458(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/683(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京青松知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11384 | 代理人 | 郑青松 |
| 主权项 | 薄膜蒸镀装置，包括：蒸镀腔室，具有进行蒸镀工序的内部空间；基座，设置在所述蒸镀腔室内，在上面安装多个基板；旋转机构，使所述基座进行旋转动作；升降构件，具备在所述基座上部，支持安装在所述基座上的基板的各边部的一部分，驱动升降时从所述基座分离基板或向所述基座安装基板；以及升降驱动单元，升降所述升降构件。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||