发明名称 |
液浸构件、浸没曝光装置、曝光方法、组件制造方法、程序、及储存媒体 |
摘要 |
液浸构件,在浸没曝光装置内,布置在通过光学构件、及光学构件与物体之间的第一液体的曝光用光的光路周围的至少一部分。液浸构件,具备:第一液浸构件,布置在光路周围的至少一部分,以用第一液体充满光学构件与物体之间的曝光用光的光路的方式在光学构件的射出面侧形成第一液体的第一浸没空间;引导部,将第一浸没空间的第一液体的至少一部分引导至光路周围的一部分即第一引导空间;以及第二液浸构件,相对光路布置在第一液浸构件的外侧,在第一浸没空间周围的一部分与第一引导空间相邻地形成第二液体的第二浸没空间。 |
申请公布号 |
CN103282831A |
申请公布日期 |
2013.09.04 |
申请号 |
CN201180062805.3 |
申请日期 |
2011.12.27 |
申请人 |
株式会社尼康 |
发明人 |
佐藤真路 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 |
代理人 |
王莉莉 |
主权项 |
一种液浸构件,在浸没曝光装置内,被布置成至少部分地围绕光学构件及通过前述光学构件与物体之间的第一液体的曝光用光的光路,前述液浸构件包括:第一液浸构件,被布置成至少部分地围绕前述光路,并且在前述光学构件的射出面侧形成前述第一液体的第一浸没空间,使得前述光学构件与前述物体之间的前述曝光用光的光路被前述第一液体充满;引导部,将前述第一浸没空间中的前述第一液体的至少一些引导至部分地围绕前述光路的第一引导空间;以及第二液浸构件,相对前述光路布置在前述第一液浸构件的外侧,并且形成部分地围绕前述第一浸没空间且与前述第一引导空间相邻的第二液体的第二浸没空间。 |
地址 |
日本东京 |