发明名称 |
具有多个室和阀的流体容器 |
摘要 |
本发明公开了一种可与成像设备一起使用的流体容器。该流体容器包括壳体单元、设置在壳体单元中且构造成用以储存流体的自由流体室,以及设置在壳体单元中的调节室。调节室包括调节单元、出口和多个状态。调节单元构造成用以调节在其中的相应的流体。出口构造成用以从调节室中输送相应的流体。流体容器还包括设置在壳体单元中的多个阀。至少一个阀构造成用以基于调节室的相应的状态有选择地停止调节室与自由流体室之间的流体连通。 |
申请公布号 |
CN103282209A |
申请公布日期 |
2013.09.04 |
申请号 |
CN201180064334.X |
申请日期 |
2011.01.07 |
申请人 |
惠普发展公司,有限责任合伙企业 |
发明人 |
P.V.博伊德;D.奥尔森;P.A.科拉 |
分类号 |
B41J2/175(2006.01)I;B41J2/14(2006.01)I;F16K17/00(2006.01)I;F15B13/02(2006.01)I |
主分类号 |
B41J2/175(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
冯春时;谭祐祥 |
主权项 |
一种可与成像设备一起使用的流体容器,所述流体容器包括:壳体单元;设置在所述壳体单元中的自由流体室,所述自由流体室构造成用以储存流体;设置在所述壳体单元中的调节室,所述调节室包括调节单元、出口和多个状态; 所述调节单元构造成用以调节在其中的相应的流体; 所述出口构造成用以从所述调节室中输送相应的流体;以及设置在所述壳体单元中的多个阀,所述多个阀中的至少一个构造成用以基于所述调节室的相应的状态有选择地停止所述调节室与所述自由流体室之间的流体连通。 |
地址 |
美国德克萨斯州 |