一种降低氧化铝薄膜紫外光学损耗的后处理方法

摘要

本发明公开了一种降低氧化铝薄膜紫外光学损耗的后处理方法，包括以下步骤：1）将基片在石油醚中超声波清洗，然后将基片放入真空室内，采用电子束热蒸发方法对氧化铝沉积薄膜，氧化铝材料的纯度在99.99%以上，沉积温度300℃～350℃，本底真空度≧5×10-4Pa，工作真空度为4×10-3Pa-6×10-3Pa；2）将镀膜后的样品退火处理，退火工艺采用阶梯升温与降温的方式，即升温阶段，样品从室温开始以50℃为步长加热，每个温度点达到后保持5分钟，直到最终设定温度，随后保温5小时；降温阶段，关闭加热炉使其自然降温，退火温度200℃-400℃，保温时间为5小时。设备简单，速度快、效率高，能够同时进行多片薄膜的处理，有效降低氧化铝薄膜的紫外光学损耗，提高氧化铝薄膜的光学稳定性。

主权项

一种降低氧化铝薄膜紫外光学损耗的后处理方法，其特征是，包括以下步骤：1）首先将基片在石油醚中超声波清洗，然后将基片放入真空室内，采用电子束热蒸发方法对氧化铝沉积薄膜，氧化铝材料的纯度在99.99%以上，沉积温度300℃～350℃，本底真空度≧5×10‑4Pa，工作真空度为4×10‑3Pa‑6×10‑3Pa；2）将镀膜后的样品退火处理，退火工艺采用阶梯升温与降温的方式，在升温阶段，样品从室温开始以50℃为步长加热，每个温度点达到后保持5分钟，随后继续升温，直到最终设定温度，随后保温5小时；在降温阶段，关闭加热炉使其自然降温。