发明名称 | 用于室温的氨敏传感器元件的制备方法 | ||
摘要 | 本发明公开了一种用于室温的氨敏传感器元件的制备方法,采用双槽电化学腐蚀法制备多孔硅,再将其置于超高真空对靶磁控溅射设备的真空室,采用金属铂作为靶材,以氩气作为工作气体,在多孔硅表面沉积铂电极,制成氨敏传感器元件。本发明的多孔硅氨敏传感器元件具有高灵敏度、高选择性、快速响应/恢复特性,且重复性强、稳定性好,对于本技术领域具有重要的实践和研究价值。 | ||
申请公布号 | CN103278534A | 申请公布日期 | 2013.09.04 |
申请号 | CN201310175271.6 | 申请日期 | 2013.05.11 |
申请人 | 天津大学 | 发明人 | 胡明;李明达;曾鹏;马双云;闫文君 |
分类号 | G01N27/00(2006.01)I | 主分类号 | G01N27/00(2006.01)I |
代理机构 | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人 | 张宏祥 |
主权项 | 一种用于室温的氨敏传感器元件的制备方法,具有如下步骤:(1)清洗硅基片衬底:将电阻率为0.01~0.02Ω·cm的n型单晶硅基片单面抛光,其厚度为400~500μm,依次放入丙酮溶剂、无水乙醇、去离子水中分别超声清洗20分钟,除去表面油污及有机物杂质;随后放入质量分数为5%的氢氟酸水溶液中浸泡15分钟,除去表面的氧化层;再用去离子水冲洗净备用;(2)制备硅基多孔硅:采用双槽电化学腐蚀法在清洗过的硅抛光表面制备多孔硅,所用电解液由氢氟酸和去离子水组成,其体积比为1:5,施加的腐蚀电流密度为95~135mA/cm2,腐蚀时间为20~25min;(3)制备多孔硅氨敏传感器元件:将步骤(2)中制得的多孔硅置于超高真空对靶磁控溅射设备的真空室。采用金属铂作为靶材,以氩气作为工作气体,气体流量为20~25sccm,溅射工作压强为2~3Pa,溅射功率80~100W,溅射时间8~15min,在多孔硅表面沉积铂电极,制成氨敏传感器元件。 | ||
地址 | 300072 天津市南开区卫津路92号 |