发明名称 |
一种高洁净度单晶硅研磨片的清洗方法 |
摘要 |
本发明公开了一种高洁净度单晶硅研磨片的清洗方法,先对硅片进行初步清洗,然后采用低浓度的无机碱溶液对硅片表面进行微量去厚清洗,将硅片表层碎晶层进行反应去除2~5微米,并使表面镶嵌物剥离,这样既保证了硅片表面的洁净度,又保留了硅片外吸杂功能,达到洁净清洗的目的。 |
申请公布号 |
CN103272796A |
申请公布日期 |
2013.09.04 |
申请号 |
CN201310198354.7 |
申请日期 |
2013.05.23 |
申请人 |
浙江长兴众成电子有限公司 |
发明人 |
孙新利;黄笑容 |
分类号 |
B08B3/08(2006.01)I;B08B3/12(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I |
主分类号 |
B08B3/08(2006.01)I |
代理机构 |
杭州华鼎知识产权代理事务所(普通合伙) 33217 |
代理人 |
秦晓刚 |
主权项 |
一种高洁净度单晶硅研磨片的清洗方法,其特征在于包括如下步骤:(1)将研磨好的硅片插入片架;(2)将片架及硅片放入盛装有工业有机清洗剂的1#药液槽浸泡;(3)将片架及硅片转移到1#超声溢流槽清洗,清洗时间5~15min:超声强度30~100KHZ;(4)将片架及硅片转移到2#超声溢流槽清洗,清洗时间5~15min,超声强度30~100KHZ;(5)将片架及硅片转移到盛装有无机碱和添加剂溶液的2#药液槽,无机碱浓度为2~10%,硅片厚度去除为2~5μm;(6)将片架及硅片转移到3#超声溢流槽清洗,清洗时间5~15min,超声强度30~100KHZ;(7)将片架及硅片转移到4#超声溢流槽清洗,清洗时间5~15min,超声强度30~100KHZ;(8)将片架及硅片转移到5#超声溢流槽清洗,清洗时间5~15min,超声强度30~100KHZ;(9)将片架及硅片进行旋转甩干,并放入包装盒;(10)将硅片进行检验并并包装。 |
地址 |
313100 浙江省湖州市长兴县县前东街1299号 |